一種利用高壓流體磨制備硫化鋅納米晶體顆粒的方法
申請號/專利號: 200610016270
一種利用高壓流體磨制備硫化鋅納米晶體顆粒的方法,其制備步驟如下:分別配制一定濃度的醋酸鋅和硫代乙酰胺水溶液,按1∶1混合;將其置于高壓流體磨內,在超高壓下進行反應;將反應產物在4000r/min下進行離心分離和超聲清洗;用去離子水對分離剩余物進行超聲分散,制得含有ZnS納米晶體顆粒的透明膠體溶液。本發明的優點是:制備原料價廉低毒,成本低、安全性好;制備過程中不添加任何助劑,雜質少、純度高;硫化鋅晶體顆粒粒徑小、粒度均勻、分散性和穩定性好;反應速率快,具備投入工業化生產的條件。本方法制得的硫化鋅納米晶體顆粒可用作發光材料、光發射器件、激光器件等;修飾后可用于生物醫藥物質分析領域。
| 申請日: |
2006年10月25日 |
| 公開日: |
2008年08月13日 |
| 授權公告日: |
2008年08月13日 |
| 申請人/專利權人: |
國家納米技術與工程研究院 |
| 申請人地址: |
天津市經濟技術開發區第四大街80號 |
| 發明設計人: |
邱海林;張笑;吳瑛 |
| 專利代理機構: |
天津德賽律師事務所 |
| 代理人: |
高美嶺 |
| 專利類型: |
發明專利 |
| 分類號: |
C01G9/08;B82B3/00 |