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濺射靶、濺射靶-背襯板組裝體以及成膜裝置

申請?zhí)?專利號: 200580039413
一種濺射靶,是形成有腐蝕部以及非腐蝕部的板狀靶,其特征在于,其表面積超過當(dāng)假定靶為平面時的表面積的100%,并且低于125%。一種濺射靶,是形成有腐蝕部以及非腐蝕部的板狀靶,其特征在于,在靶表面區(qū)域具有1個或多個凹部,靶的表面積超過當(dāng)假定靶為平面時的表面積的100%,并且低于125%。通過進(jìn)行自濺射或高功率濺射,在靶的全部壽命中,通過將濺射電路中的電壓變動控制為盡可能小,從而可使用容量較小、價廉的電源裝置。
申請日: 2005年10月14日
公開日: 2007年10月31日
授權(quán)公告日:
申請人/專利權(quán)人: 日礦金屬株式會社
申請人地址: 日本東京都
發(fā)明設(shè)計人: 宮下博仁
專利代理機(jī)構(gòu): 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
代理人: 樊衛(wèi)民 郭國清
專利類型: 發(fā)明專利
分類號:
C23C14/34
標(biāo)簽:襯板    濺射靶、濺射靶-背襯板組裝體以及成膜裝置
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