去離子水/超純水在電子工業主要是線路板、電子元器件生產中的重要作用日益突出，去離子/超純水水質已成為影響線路板、電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。
在晶體管、集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產對純水水質的要求見表1
表1 集成電路（DRAM）對純水水質的要求
電子超純水設備是保證電子 產 品 質量 安 全 促進電子業健康運行的依據，電子超純水設備適用集成電路生產中高純水清洗硅片、半導體材料、晶元材料生產、加工，純水一號的電子工業設備廣泛的用于在電子業中，而且在電子業中的地位更是蒸蒸日上成為業內發展的主導者。
電子行業超純水的特點
目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、，以區分不同水質。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高
電子行業超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素。超純水,是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設備的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。
